HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀，二氧化硅（SiO2）的管理對于防止水垢的形成至關(guān)重要。這是因?yàn)闇u輪機(jī)中存在的水垢會(huì)降低發(fā)電效率，尤其是對火力發(fā)電廠和核電廠，用于測量鍋爐水和純水中的微量二氧化硅。

HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀的產(chǎn)品詳情：

二氧化硅（SiO2）的管理對于防止水垢的形成至關(guān)重要。這是因?yàn)闇u輪機(jī)中存在的水垢會(huì)降低發(fā)電效率，尤其是對火力發(fā)電廠和核電廠。通過HORIBA多年來在分析領(lǐng)域的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，研發(fā)了穩(wěn)定性和可維護(hù)性佳的SLIA-5000二氧化硅水質(zhì)分析儀，用于測量鍋爐水和純水中的微量二氧化硅。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

測量時(shí)間5 分鐘，重復(fù)性±2%F.S.

具備極快的響應(yīng)速度和高重復(fù)性的測量結(jié)果。

寬量程

從高靈敏度的 0~10 μg/L 到高濃度的 0~5.0 mg/L 都能實(shí)現(xiàn)測量。

自診斷功能

自我診斷多種異常，例如采樣或試劑供應(yīng)異常，校正異常，光源異常和內(nèi)部溫度異常。

自動(dòng)校正功能

每次測量自動(dòng)零點(diǎn)校正，量程校正可預(yù)設(shè)為在特定時(shí)間執(zhí)行。

能夠自動(dòng)切換測量周期

當(dāng)采樣濃度超過設(shè)定濃度范圍時(shí)自動(dòng)縮短測量周期，當(dāng)采樣濃度低于設(shè)定的濃度范圍時(shí)自動(dòng)延長測量周期，這樣能夠節(jié)省電力和試劑。

提高可操作性

配備彩色LCD 觸摸屏，可操作性強(qiáng)。

HORIBA/堀場SLIA-5000二氧化硅分析儀的產(chǎn)品參數(shù)：

更多產(chǎn)品推薦：

高靈敏度二氧化硅濃度計(jì) SLIA-300

滿足以0.01µg/L (0.01 ppb) 的較高靈敏度測量超低密度二氧化硅的客戶需求。半導(dǎo)體生產(chǎn)制程中使用的超純水可以通過使用離子交換樹脂進(jìn)一步純化。快速捕獲從離子交換樹脂中溶解的二氧化硅可以控制超純水的質(zhì)量，這對制程十分重要。HORIBA Advanced Techno 開發(fā)并采用了一種新的“長光路徑長度測量單元"，能夠?qū)Τ兔芏榷趸柽M(jìn)行高靈敏度測量，同時(shí)還提供緊湊的桌面型號(hào)，以提高實(shí)用性。該產(chǎn)品具有自診斷等一系列標(biāo)準(zhǔn)功能以及高速響應(yīng)和高靈敏度等新的性能改進(jìn)，為半導(dǎo)體生產(chǎn)制程中的純水工藝提供了更強(qiáng)的支持。

產(chǎn)品參數(shù)：